“铝钼蚀刻液,电子级化学品厂家专业定制加工,”参数说明
是否有现货: | 是 | 认证: | ISO14000/18000 |
用途: | 半导体和集成电路中钼铝的蚀刻 | 应用: | 液晶显示行业 |
级别: | 电子纯MOS | 含量: | 标准品 |
类别: | 高纯物质 | 型号: | 铝钼蚀刻液 |
规格: | 500ml、4L | 商标: | by |
包装: | 500ml、4L,也可以按客户要求定制包 | 产量: | 1000000000 |
“铝钼蚀刻液,电子级化学品厂家专业定制加工,”详细介绍
)铝钼蚀刻液
英文名称:Aluminum molybdenum etching liquid
物化性质:钼的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右,温度越高蚀刻速率越快,一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min,而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将金属氧化成为金属氧化物,接着再利用磷酸将氧化物予以溶解去除,如此反复进行以达蚀刻的效果。 铝或铝合金的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右,温度越高蚀刻速率越快,一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min,而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将铝氧化成为氧化铝,接着再利用磷酸将氧化铝予以溶解去除,如此反复进行以达蚀刻的效果。
主要用途:用于半导体和集成电路中钼铝的蚀刻。
包装: 500ml、4L,也可以按客户要求定制包装。
铝钼蚀刻液,电子级化学品厂家专业定制加工,
英文名称:Aluminum molybdenum etching liquid
物化性质:钼的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右,温度越高蚀刻速率越快,一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min,而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将金属氧化成为金属氧化物,接着再利用磷酸将氧化物予以溶解去除,如此反复进行以达蚀刻的效果。 铝或铝合金的湿式蚀刻主要是利用加热的磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液加以进行。一般加热的温度约在35°C-45°C左右,温度越高蚀刻速率越快,一般而言蚀刻速率约为1000-3000 ? /min,而溶液的组成比例、不同的温度及蚀刻过程中搅拌与否都会影响到蚀刻的速率。蚀刻反应的机制是藉由硝酸将铝氧化成为氧化铝,接着再利用磷酸将氧化铝予以溶解去除,如此反复进行以达蚀刻的效果。
主要用途:用于半导体和集成电路中钼铝的蚀刻。
包装: 500ml、4L,也可以按客户要求定制包装。
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